光敏印章曝光操作

光敏印章曝光操作是利用光敏印章机的特定光源对光敏印章垫进行照射，使其表面形成图案的过程。

光敏印章曝光操作是制作光敏印章的关键步骤之一，以下是详细的操作流程：

1. 准备工作：首先，确保光敏印章机处于正常工作状态，并将打印好的硫酸纸正面向上放置在曝光玻璃上。硫酸纸上应放置有需要雕刻的图案。

2. 覆盖曝光膜：将裁剪好的合适大小的曝光膜覆盖在硫酸纸上。曝光膜的尺寸应大于硫酸纸，以确保图案能够完全覆盖。

3. 放置光敏垫：将合适大小的光敏垫放置在曝光膜上，确保光敏垫与曝光膜紧密贴合。光敏垫的放置位置要准确，以免影响曝光效果。

4. 关闭机器盖：轻合上光敏印章机的上盖，并将扣件旋紧。确保盖子完全封闭，避免光线泄露。

5. 设置曝光参数：接通电源，根据光敏印章垫的种类和曝光需求，将曝光旋钮旋至所需的参数。本机采用可调节式电位器，由低至高分为5级，均可曝光。

6. 触发曝光：按下触发开关，机器开始充电。当电压达到所需曝光电压时，机器将自动完成曝光。

7. 取出光敏垫：曝光完成后，取出光敏垫。此时，光敏垫表面应呈现出清晰的图案。

8. 注油：光敏印章垫需要添加光敏印油，以确保印迹清晰。将光敏印油涂抹在图案处即可。

在曝光操作过程中，需要注意以下几点：

确保硫酸纸、曝光膜和光敏垫的尺寸准确，以免影响曝光效果。

光敏垫的放置位置要准确，以免影响图案的完整性。

根据光敏印章垫的种类和曝光需求，调整曝光参数，以确保图案清晰。

在曝光过程中，避免光线泄露，以免影响曝光效果。

总之，光敏印章曝光操作是制作光敏印章的关键步骤，掌握正确的操作方法将有助于提高印章的质量。